Dziś obchodzimy 10. doroczny Dzień Bezpiecznego Internetu (DBI), który promuje bezpieczniejsze i bardziej odpowiedzialne korzystanie z technologii online wśród młodych użytkowników na całym świecie. …
Kondycja sektora motoryzacyjnego i prognozy na najbliższą przyszłość – to główne tematy konferencji motoryzacyjnej Auto Forum & Business Day, która odbędzie się w dniach 3-5 grudnia we Wrocławiu. Partnerem branżow
Najnowszy notebook z popularnej linii ATIVz systemem Windows to doskonałe parametry i pełen komfort mobilności.…
Firma Samsung Electronics Polska do otrzymanych w tym roku nagród może dodać kolejną ? „Kryształowe Godło” przyznane podczas Gali European Trusted Brands 2013. Wyróżnienia otrzymały marki, które cieszą się najwi
Wrocławska firma IT, partner SAP Polska, zdecydowała się na wprowadzenie metodyki Design Thinking w procesie projektowania rozwiązań IT dla swoich klientów. Tym samym Hicron udostępnia polskim firmom, stosowaną z powodzeniem na
3 lipca 2013 r. w Warszawie rozpoczęło się trzydniowe Ogólnoświatowe Sympozjum Regulatorów (GSR13), organizowane przez Prezes Urzędu Komunikacji Elektronicznej oraz Ministra Administracji i Cyfryzacji. Netia jest partnerem techn
Podczas trwających właśnie targów Mobile World Congress w Barcelonie został zaprezentowany pierwszy na świecie 8-calowy tablet wyposażony w rysik S Pen. To przenośne urządzenie, dzięki doskonałej konstrukcji i wielu przydatn
Rozpoczyna się nowa kampania reklamowa pralek firmy Samsung. Działania będą promować nowe pralki Eco Bubble z linii Crystal Gloss, dzięki którym pranie jest skutecznie nawet w niskiej temperaturze.…
Samsung ATIV One 7 to domowy komputer, który spełni wymagania wszystkich członków rodziny. Wysoka wydajność połączona z niezwykłymi funkcjami kontroli sprawia, że zarówno mama, tata jak i dzieci nie będą się z nim nudzić
Stal to jeden z najpopularniejszych i uniwersalnych materiałów konstrukcyjnych, w 2012 r. w Polsce zużyto jej ponad 10 mln ton.* Nieustanna konieczność obniżania kosztów obróbki i zwiększania efektywności produkcji skłania d
